ZSX Primus400波長色散熒光儀

ZSX Primus400波長色散熒光儀-順序波長色散XRF光譜儀

用于大樣品固體、液體、粉末、合金和薄膜的元素分析

Rigaku獨(dú)T的ZSX Primus 400順序波長色散x射線熒光(WDXRF)光譜儀專門設(shè)計用于處理非常大和/或重的樣品。該系統(tǒng)可接受直徑達(dá)400毫米，厚50毫米，質(zhì)量30公斤的樣品，是分析濺射目標(biāo)，磁盤或多層膜計量或大樣品元素分析的理想選擇。XRF與定制樣品適配器系統(tǒng)具有多功能性，以適應(yīng)您的特定樣品類型和分析需求，這款WDXRF光譜儀適用于各種樣品尺寸和形狀，使用可選的(定制)適配器插入。具有可變測量點(直徑30毫米至0.5毫米，5步自動選擇)和多點測量的測繪能力，以檢查樣品均勻性，這種獨(dú)T靈活的儀器可以大大簡化您的質(zhì)量控制過程。

XRF與可用的相機(jī)和特殊照明可選的實時攝像機(jī)允許在軟件中查看分析區(qū)域。操作者完Q確定正在測量的是什么。傳統(tǒng)的WDXRF分析能力傳統(tǒng)儀器的所有分析能力都保留在這種“大樣本"變體中。通過鈾(U)分析鈹(Be)，使用高分辨率，高精度WDXRF光譜，從固體到液體，從粉末到薄膜。分析較寬的成分范圍(ppm到10%)和厚度(?到mm)。可選的是衍射峰干擾抑制，單晶襯底的最佳結(jié)果。Rigaku ZSX Primus 400波長色散x射線熒光(WD-XRF)光譜儀符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)SEMI和CE。

ZSX Primus 400 應(yīng)用程序濺射靶成分隔離膜:SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si3N4、SiOF、SiON等。高氣和亞鐵電影:PZT, BST, SBT, Ta2Os, HfSiOx金屬薄膜：銅硅鋁、鎢、鈦、鈷、鈦、鉭、銥、鈀、釕、釕、鎳等。電極膜:摻雜多晶硅(摻雜劑:B、N、O、P、As)、非晶硅、WSix、Pt等。其他摻雜薄膜(As, P)，捕獲惰性氣體(Ne, Ar, Kr等)，C (DLC)鐵電薄膜，F(xiàn)RAM, MRAM, GMR, TMR;PCM, GST, GeTe焊料凹凸成分:SnAg, SnAgCuNiMEMS: ZnO, AIN, PZT的厚度和組成SAW器件工藝:AIN、ZnO、ZnS、SiO2(壓電薄膜)的厚度及組成;艾爾,鋁銅、鋁鎵、AITi（薄膜電極）

ZSX Primus 400 配件帶有特殊照明的樣品相機(jī)可以在屏幕上查看分析點衍射干擾抑制為單晶襯底提供了準(zhǔn)確的結(jié)果基本參數(shù)軟件薄膜分析

ZSX Primus400波長色散熒光儀特性

大樣本分析不超過400毫米(直徑)最大50mm(厚度)高達(dá)30公斤(質(zhì)量)樣本適配器系統(tǒng)適應(yīng)各種樣品尺寸測量的位置直徑30毫米至0.5毫米五步自動選擇映射能力允許多點測量示例視圖相機(jī)(可選)通用分析Be - U元素范圍:ppm到%厚度范圍:亞A至毫米衍射干擾抑制(可選)單晶襯底的精確結(jié)果遵從行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)SEMI、CE標(biāo)志占用空間小占用前代型號的50%